序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
1 | 离子束刻蚀设备 | 1套 | 系统主要构成为离子束刻蚀设备主机、真空工艺腔室、真空系统、传送系统、离子源、离子源中和器、样品台、气体系统、控制系统、终点检测系统,系统备件包等。 | |
2 | 离子束溅射设备 | 1套 | 离子束溅射设备由腔体系统、主离子源及辅助离子源系统、真空系统、靶材夹持系统、加热系统、气体系统、光学监测系统及夹具等部件组成。 |
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